半导体清洗技术研究推广基地

清洗技术对半导体工业是极端重要的,可以说,如果没有有

效的清洗技术,便没有今日的半导体产业。当今半导体工业

已经有了举世属目的发展,然而半导体工业的清洗技术仍然

沿用40余年的传统清洗技术。传统清洗技术主要使用酸、碱

、双氧水、甲苯、三氯乙烯、氟里昂等化学试剂,不仅成本

较高,而且有毒、有腐蚀性、危害操作人员的安全与健康、

污染环境。特别是氟里昂等ODS物质严重破坏地球高空的臭氧

层,危及人类生态环境,是国际上限期禁止生产和使用的物

质。多年来,国内外一些科学家就致力于研究一种无毒无腐

蚀性的清洗工艺,均未取得突破性进展。


几年来,在国家计委、国家科委、国家教委和电子部的领导下

,在学校的大力支持下,全体攻关科技人员团结一致,奋力拼

搏,攻克了一个个技术难关,研制成功了新型电子清洗剂DZ-1

、DZ-2、DZ-3、DZ-4、DZ-5一整套系列清洗剂与清洗工艺。新

型电子清洗剂DZ-1、DZ-2完全能够代替常规半导体清洗工艺用

的1#液和2#液;新型电子清洗剂DZ-3主要应用于清洗半导体光

刻工艺中曝光显影后的光刻胶,以代替传统清洗工艺中使用的

硫酸双氧水或去胶剂等;新型电子清洗剂DZ-4主要应用于清

洗黑蜡、松香和石蜡混合物,以取得传统半导体清洗工艺中常

用的苯、甲苯、三氯乙烯、二氯甲烷等有机试剂;新型电子清洗

剂DZ-5主要在电子清洗中代替氟里昂等ODS物质;该整套系列清

洗剂完全能够取代半导体器件生产中使用的传统清洗技术,清

洗效果等于或略优于传统清洗技术,清洗成本大大低于传统清

洗工艺(仅为传统清洗技术的5~30%),而且无毒无腐蚀性、

对人体无危害、对环境无污染、对高空臭氧层无破坏作用,是

电子清洗技术的一次革命,经济效益、社会效益显著。该项目

属国际首创,具有国际先进水平,已列入国家科技成果推广项

目,95年国家级新产品,国家科委在我校建立了“国家电子元

器件清洗技术研究推广中心”,建立了一条年产100吨新型电子

清洗剂的中试线。该技术已推广到全国25个省、市、自治区的

200多个单位应用或试用。

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